Высоковакуумное оборудование для нанесения покрытий методом магнетронного напыления

Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCP350
JCP350

Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления представляют собой инновационное оборудование, позволяющее создавать тонкие, прочные и однородные покрытия на разнообразных поверхностях. Этот процесс обеспечивается уникальной технологией магнетронного распыления, которая не только повышает прочность и устойчивость покрытия, но и делает его нанесение управляемым и воспроизводимым.

Принцип работы

Принцип работы высоковакуумного магнетронного распыления основан на использовании магнитного поля для увеличения эффективности распыления материала-мишени. Установка создает высоковакуумную среду, в которой мишень из целевого материала (например, металла или диэлектрика) подвергается воздействию высокочастотного электрического поля. Это приводит к образованию ионизированного газа, который вызывает выброс атомов из мишени.

Магнитные катушки, размещенные над мишенью, создают магнитное поле, что увеличивает плотность плазмы и способствует более эффективному ионизации газа. Таким образом, атомы материала, выбрасываемые из мишени, осаждаются на подложке, образуя тонкие и равномерные покрытия. Управление процессом позволяет регулировать скорость осаждения, толщину покрытия и его свойства, такие как структура и адгезия.

Применение оборудования

Установки для высоковакуумного магнетронного распыления находят широкое применение в различных областях:

  • Электроника и проводниковая промышленность.
  • Оптика.
  • Авиационная промышленность.
  • Медицина.

Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCP200 Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCP700
Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCPY500
JCP200 JCP700 JCPY500



Технические характеристики

Модель

JCP200

JCP350

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

220 x 300

350 x 350

Размер подложки, Ø мм

100

120

Неравномерность толщины пленки

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 50 мм)

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 75 мм)

Область напыления, Ø мм

50

50

Температура нагрева, ℃

до 500

Контроль подачи газа

1-2 канала контроля расхода газа

2-3 канала контроля расхода газа

Способ управления

Сенсорный экран управления + ПЛК

Сенсорный экран управления + ПЛК

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

600 × 800 × 1700

1620 × 1060 × 1900

Потребляемая мощность, кВт

≥ 6

≥ 8


Модель

JCP700

JCPY500

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

500 x 420

500 x 450

Размер подложки, Ø мм

150

150

Неравномерность толщины пленки

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 100 мм)

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 100 мм)

Область напыления, Ø мм

76

76 / 101 (опционально)

Температура нагрева, ℃

до 500

Контроль подачи газа

2-3 канала контроля расхода газа

3 канала контроля расхода газа

Способ управления

ПЛК/ ПК (опционально)

ПЛК/ ПК (опционально)

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

1900 × 800 × 1900

1800 × 800 × 1845

Потребляемая мощность, кВт

≥ 10

≥ 15

 

В нашем интернет-магазине вы можете подробно ознакомиться с характеристиками вакуумного оборудования для нанесения покрытий. Наши специалисты всегда готовы ответить на ваши вопросы и помочь подобрать оптимальное решение для ваших потребностей. Мы также предоставим актуальные цены на все товары, чтобы вы могли сделать обоснованный выбор. Ваш комфорт и удовлетворение — наш приоритет!