Решения для лабораторий и высокотехнологичных производств

+7 495 545-07-08

Режим работы:

Пн-Чт: 9:00 - 18:00

Пт: 9:00 - 17:00

Сб-Вс: выходной

Заказать звонок

Напылительная установка для покрытий с высокой устойчивостью к испарению – вакуумная PVD система

Установка для напыления с устойчивостью к испарению ZHD600
ZHD600

Установка вакуумного напыления покрытий с высокой устойчивостью к испарению – это специализированная напылительная установка, предназначенная для формирования стабильных, плотных и долговечных защитных слоёв на различных типах подложек. Такое оборудование применяется в тех сферах, где критически важны химическая стойкость, термостойкость и долговечность покрытия в условиях высоких нагрузок или вакуумных сред.

Современная вакуумная напылительная установка обеспечивает точное управление параметрами процесса и позволяет получать покрытие, которое не разрушается и не теряет массу даже при воздействии агрессивных факторов. Для предприятий, планирующих установку вакуумного напыления купить, такие комплексы становятся оптимальным решением благодаря высокой стабильности результата и широкому спектру применений.

Принцип работы

Данная PVD установка работает по технологии физического осаждения в вакууме. Материал покрытия переводится в паровую фазу (испаряется или распыляется магнетронным/ионным методом), после чего осаждается на поверхность изделия, образуя равномерную плёнку с высокой адгезией.

Для получения покрытий с повышенной устойчивостью к испарению применяются:

  • специальные полимерные и композитные материалы,
  • многослойные барьерные структуры,
  • технологические режимы, обеспечивающие высокую плотность покрытия.

Вакуумный процесс позволяет исключить воздействие кислорода и других примесей, что значительно повышает стойкость покрытия и его защитные свойства.

Вакуумный напылитель может быть оснащён

  • системой контроля температуры и давления,
  • регулируемыми источниками испарения и магнетронного распыления,
  • автоматизированным управлением режимами осаждения.

В результате формируется долговечный слой, устойчивый к испарению, химическим воздействиям и термическим нагрузкам.


Установка для напыления с устойчивостью к испарению ZHD300 Установка для напыления с устойчивостью к испарению ZHD400
ZHD300 ZHD400


Области применения

Покрытия с устойчивостью к испарению используются в высокотехнологичных отраслях, включая:

  • Аэрокосмическую промышленность – барьерные слои для оптики, теплоотводящих элементов, функциональных композитов.
  • Химическую промышленность – защита от коррозии, агрессивных сред, высокотемпературных реакций.
  • Электронику – покрытие компонентов, работающих в вакууме и высоких температурах.
  • Оптику – создание стабильных многослойных зеркальных, просветляющих и защитных плёнок.

Такая PVD система обеспечивает стабильное качество покрытий и подходит как для лабораторных задач, так и для серийного производства.


Технические характеристики

Модель

ZHD300

Метод нанесения покрытия

Испарение металла из нескольких источников

Конструкция вакуумной камеры

Стеклянная купольная крышка с основанием из нержавеющей стали

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

300 x 360

Размер подложки, Ø мм

100

Неравномерность толщины пленки,

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 80 мм)

Температура нагрева, ℃

 до 250

Источник испарения

2 группы металлических источников испарения

Способ управления

Сенсорный экран управления + ПЛК

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

1100 × 800 × 1000

Потребляемая мощность, кВт

≥ 5


Модель

ZHD400

Метод нанесения покрытия

Испарение металла из нескольких источников

Конструкция вакуумной камеры

Вертикальная камера с дверью  

Размер вакуумной камеры, мм (Д×Ш×В)

400 × 440 × 450

Размер подложки, мм

120 × 120

Неравномерность толщины пленки,

± 5.0%

Температура нагрева, ℃

до 300

Источник испарения

2-3 группы металлических источников / 2-3 группы органических источников

Способ управления

Сенсорный экран управления + ПЛК

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

1710 × 850 × 1850

Потребляемая мощность, кВт

≥ 8


Модель

ZHD600

Метод нанесения покрытия

Испарение металла из нескольких источников

Конструкция вакуумной камеры

Вертикальная

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

650 x 800

Неравномерность толщины пленки,

± 5.0%

Температура нагрева, ℃

до 300

Источник испарения

2-3 группы металлических источников

Способ управления

ПЛК/ ПК (опционально)

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

1000 × 1200 × 1900

Потребляемая мощность, кВт

≥ 12


В нашем интернет-магазине вы можете подробно ознакомиться с характеристиками вакуумных напылительных установок. Мы предлагаем полную информацию о каждом продукте, чтобы вы могли сделать осознанный выбор.

Наши специалисты всегда готовы предоставить вам актуальные цены и ответить на любые ваши вопросы. Мы понимаем, что выбор оборудования — это важный шаг, и готовы помочь вам подобрать оптимальное решение для ваших задач. Не стесняйтесь обращаться к нам за консультацией!