Решения для лабораторий и высокотехнологичных производств

+7 495 545-07-08

Режим работы:

Пн-Чт: 9:00 - 18:00

Пт: 9:00 - 17:00

Сб-Вс: выходной

Заказать звонок

Установка вакуумного напыления алмазных (DLC) плёнок – PVD система для твёрдых покрытий

Установка вакуумного напыления алмазных пленок HF450
HF450

Установка вакуумного напыления алмазных плёнок (DLC/PVD) – это специализированная напылительная установка, предназначенная для формирования сверхтвёрдых, износостойких и термостойких покрытий на различных типах подложек. Такое оборудование используется в научных и промышленных задачах, где требуется высокая прочность, химическая инертность и устойчивость к экстремальным нагрузкам.

Современная вакуумная напылительная установка обеспечивает точное управление параметрами вакуума, температуры, состава газовой среды и скоростью роста плёнки. Это позволяет получать покрытие с заданной структурой, толщиной и функциональными свойствами.

Для предприятий, рассматривающих установку вакуумного напыления купить, алмазные (DLC) системы являются одним из самых востребованных решений благодаря их универсальности и стабильности процесса.

Принцип работы

Осаждение алмазных плёнок выполняется методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) или гибридных PVD-процессов. Вакуумная камера создаёт условия, необходимые для диссоциации углеродсодержащих газов (метана, ацетилена) и активации атомов углерода.

При контролируемой температуре и давлении на поверхности подложки формируется кристаллическая или аморфная алмазоподобная структура, обеспечивающая:

  • высокую износостойкость,
  • коэффициент трения ниже, чем у большинства металлов,
  • высокую термостойкость,
  • химическую инертность.

Такая PVD система обеспечивает стабильность процесса и повторяемость характеристик покрытия, что важно как для лабораторий, так и для промышленного производства.


Установка вакуумного напыления алмазных пленок HF600 Установка вакуумного напыления алмазных пленок HF700
Установка вакуумного напыления алмазных пленок HF1200
HF600 HF700 HF1200


Возможности установки

  • Нанесение алмазных плёнок различной толщины.
  • Осаждение DLC-структур с регулируемой твёрдостью и оптическими свойствами.
  • Покрытие электродов, пресс-форм, режущего инструмента, медицинских компонентов.
  • Интеграция с источниками плазмы и системами нагрева подложек.
  • Работа в составе многопроцессных комплексов PVD/CVD.

Области применения

Алмазные покрытия востребованы там, где требуется максимальная износостойкость, устойчивость к температуре и химическая защита:

  • Электроника и полупроводниковая промышленность: теплопроводящие и защитные слои.
  • Медицина: биосовместимые DLC-покрытия для имплантатов и инструментов.
  • Авиационная и автомобильная промышленность: защита деталей от трения и эрозии.
  • Научные исследования: создание функциональных слоёв для экспериментальных установок.


Технические характеристики

Модель

HF450

HF600

Конструкция вакуумной камеры

Вертикальная камера с дверью

Вертикальная камера с дверью

Вытяжная система

Есть

Есть

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

450 x 500

600 x 500

Вакуумная система

Высоковакуумная система с молекулярным насосом

Высоковакуумная система с молекулярным насосом

Размер подложки, Ø мм

100

250

Температура подложки, ℃

600 ~ 1100

Источник питания, А

Высоко­температурные нити, 400

Высоко­температурные нити, 800

Режимы работы

Постоянный ток/ мощность

Контроль подачи газа

4 канала контроля расхода газа

Способ управления

Сенсорный экран управления + ПЛК

Сенсорный экран управления + ПЛК + ПК

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

1200 × 1060 × 1900

1620 × 1060 × 1900

Потребляемая мощность, кВт

≥ 20

≥ 43

Охлаждение

Двойное водяное охлаждение

 

Модель

HF700

HF1200

Конструкция вакуумной камеры

Вертикальная камера с дверью

Вертикальная камера с дверью

Вытяжная система 

Есть

Есть

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

700 x 700

1200 x 1200

Вакуумная система

Высоковакуумная система с молекулярным насосом

Высоковакуумная система с молекулярным насосом

Размер подложки, Ø мм

350

500

Температура подложки, ℃

600 ~ 1100

Источник питания, А

Высоко­температурные нити, 1000

Высоко­температурные нити, 2200

Режимы работы

Постоянный ток/ мощность

Контроль подачи газа

4 канала контроля расхода газа

Способ управления

Сенсорный экран управления + ПЛК

Сенсорный экран управления + ПЛК + ПК

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

2200 × 1200 × 1800

5000 × 3000 × 4000

Потребляемая мощность, кВт

≥ 64

≥ 300

Охлаждение

Двойное водяное охлаждение


В нашем интернет-магазине вы сможете ознакомиться с полными характеристиками установок вакуумного напыления алмазных пленок. Наши специалисты всегда готовы предоставить актуальные цены и ответить на ваши вопросы. Мы поможем вам подобрать оптимальное решение для ваших задач, учитывая все ваши требования и пожелания.