Решения для лабораторий и высокотехнологичных производств

+7 495 545-07-08

Режим работы:

Пн-Чт: 9:00 - 18:00

Пт: 9:00 - 17:00

Сб-Вс: выходной

Заказать звонок

Установка магнетронного напыления

Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCP350
JCP350

Установка магнетронного напыления — это вакуумное оборудование для нанесения тонкопленочных покрытий с высокой воспроизводимостью параметров процесса. Такие системы применяются при работе с металлическими, диэлектрическими и многослойными покрытиями, когда требуется контролируемое осаждение материала на подложку, стабильное качество пленки и возможность точной настройки технологического режима.

Вакуумная установка магнетронного напыления используется в лабораториях, исследовательских центрах и на производственных участках, где важны чистота процесса, равномерность покрытия и гибкость конфигурации оборудования. В зависимости от задачи установка может подбираться для проведения НИОКР, отработки технологии, изготовления опытных образцов и решения прикладных производственных задач.

Принцип работы установки магнетронного напыления

В основе работы лежит распыление материала мишени в вакуумной камере с последующим осаждением частиц на поверхность подложки. Применение магнетрона позволяет повысить плотность плазмы вблизи мишени и обеспечить эффективное распыление материала при стабильных параметрах процесса. Благодаря этому установка магнетронного напыления подходит для получения покрытий с заданной толщиной, структурой и функциональными свойствами.

Технология востребована там, где необходимо обеспечить:

  • высокую адгезию покрытия к подложке;
  • хорошую повторяемость результатов;
  • точный контроль параметров осаждения;
  • возможность работы с различными материалами и типами покрытий;
  • стабильность процесса в условиях вакуума.

Где применяется вакуумная магнетронная установка

Установка магнетронного напыления применяется в различных направлениях, связанных с получением функциональных покрытий и тонких пленок. Такое оборудование используется в электронике, оптике, материаловедении, машиностроении, приборостроении, медицине и других областях, где требуется нанесение покрытий с контролируемыми характеристиками.

В зависимости от конфигурации вакуумная магнетронная установка может использоваться для:

  • нанесения проводящих и защитных слоев;
  • получения функциональных тонкопленочных покрытий;
  • работы с металлическими и диэлектрическими материалами;
  • подготовки образцов для исследований;
  • отработки технологических режимов перед внедрением в производство.

Как выбрать установку магнетронного напыления

При подборе оборудования важно учитывать тип наносимого покрытия, характеристики подложек, требования к равномерности слоя, температурному режиму, составу газовой среды и степени автоматизации управления. Также имеет значение формат задач: лабораторные исследования, опытно-технологические работы или эксплуатация в рамках производственного процесса.

Если требуется установка магнетронного напыления для решения конкретной технологической задачи, оптимальным вариантом является подбор конфигурации под параметры процесса. Это позволяет получить оборудование, соответствующее требованиям по вакуумной системе, управлению, нагреву, подаче газа и другим рабочим параметрам.

Установки магнетронного напыления Вилитек

Компания Вилитек поставляет установки магнетронного напыления для высокоточного вакуумного нанесения покрытий. В линейке представлены решения для лабораторного и прикладного использования, а также системы, которые могут подбираться с учетом требований заказчика к конфигурации, условиям процесса и особенностям обрабатываемых материалов.

Если вам нужна установка магнетронного напыления, специалисты Вилитек помогут подобрать подходящее решение по типу покрытия, размеру подложек, составу процесса и необходимому уровню автоматизации.



Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCP200 Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCP700
Напылительные установки для высоковакуумного магнетронного распыления JCPY500
JCP200 JCP700 JCPY500



Технические характеристики

Модель

JCP200

JCP350

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

220 x 300

350 x 350

Размер подложки, Ø мм

100

120

Неравномерность толщины пленки

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 50 мм)

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 75 мм)

Область напыления, Ø мм

50

50

Температура нагрева, ℃

до 500

Контроль подачи газа

1-2 канала контроля расхода газа

2-3 канала контроля расхода газа

Способ управления

Сенсорный экран управления + ПЛК

Сенсорный экран управления + ПЛК

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

600 × 800 × 1700

1620 × 1060 × 1900

Потребляемая мощность, кВт

≥ 6

≥ 8


Модель

JCP700

JCPY500

Размер вакуумной камеры, мм (Ø × В)

500 x 420

500 x 450

Размер подложки, Ø мм

150

150

Неравномерность толщины пленки

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 100 мм)

± 5.0% (в пределах диапазона Ø 100 мм)

Область напыления, Ø мм

76

76 / 101 (опционально)

Температура нагрева, ℃

до 500

Контроль подачи газа

2-3 канала контроля расхода газа

3 канала контроля расхода газа

Способ управления

ПЛК/ ПК (опционально)

ПЛК/ ПК (опционально)

Габариты установки, мм (Д×Ш×В)

1900 × 800 × 1900

1800 × 800 × 1845

Потребляемая мощность, кВт

≥ 10

≥ 15

 

В нашем интернет-магазине вы можете подробно ознакомиться с характеристиками вакуумного оборудования для нанесения покрытий. Наши специалисты всегда готовы ответить на ваши вопросы и помочь подобрать оптимальное решение для ваших потребностей. Мы также предоставим актуальные цены на все товары, чтобы вы могли сделать обоснованный выбор. Ваш комфорт и удовлетворение — наш приоритет!